图纸白送也没用,即便看懂也造不出光刻机,专家:给西方人上一课

从今年年初开始,美国不断加大对我国华为在内的一些高科技产业打击,美国这么做的原因和目的其实我们很清楚(www.vvv9.cn)。因为半导体是高科技领域的“钥匙”,没有它,高科技产业就无从谈起,美国之所以在芯片领域对我国卡脖子,就是因为想要遏制我国的快速发展。光刻机是生产芯片的重要工具,一时间,成了炙手可热的话题。近日,上海微电子成功研发出22nm光刻机,让我国在光刻机领域终于抬起头迈出重要一步。然而中国不断的进步,让美国感到不安,美国政府认为,如果中国在高端芯片领域一旦取得成功,未来必然成为美国芯片主要竞争对手。

每年美国在芯片领域的获利至少在几千亿美元,因为一家独大让美国的芯片远销世界各地,而且很多国家都十分依赖美国的芯片。早先年的时候,我国在该领域是一片空白,当时我国花重金打造半导体研发部门和机构,当我国宣布要研制光刻机时,遭到了西方国家的嘲讽,他们认为,即便把光刻机的图纸铺在我国科研人员面前,即使看懂了,也造不出来。但是让这些西方国家没想到的是,我国在20年后的今天,给他们生动的上了一课,因为如今的中国就已经能自主生产出22nm光刻机了。

当然,这样的成就并不是为了吹嘘什么,毕竟目前22nm只能算是入门级别,相比荷兰的ASML所能生产出来的7nm光刻机差距还是很大。从22nm到7nm这样的级别,我国在芯片路上还需要越过无数座“山峰”。只有这样,才能实现真正意义上的半导体领域崛起。虽然22nm光刻机不是什么特别值得庆祝的事情,但不可否认的是,我国已经在该领域迈出了最关键的一步。因为我国除了需要高端芯片之外,需求量更大的依然是中低端芯片。而22nm级别的芯片刚好满足我国这一需求。

这就可以很好地填补我国芯片市场空白,不需要大量从国外进口芯片,每年至少能为国家省下上千亿美元。而在满足中低端芯片市场的同时,也为我国研制高端芯片赢得了宝贵时间。不少网友问那我国还需要多久才能成为研制高端芯片的国家呢?对此有专家推测称,15年的时间,也就是大约到2035年,我国能实现7nm级别的芯片自产,到时与欧美国家芯片技术并驾齐驱。

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